Optimization of a 65 nm CMOS imaging process for monolithic CMOS sensors for high energy physics

Rinella G.A.; Andronic A.; Antonelli M.; Baccomi R.; Ballabriga R.; Barbero M.; Barrillon P.; Baudot J.; Becht P.; Benotto F.; Beole S.; Bertolone G.; Besson A.; Bialas W.; Borghello G.; Braach J.; Buckland M.; Bugiel S.; Buschmann E.; Camerini P.; Campbell M.; Carnesecchi F.; Cecconi L.; Charbon E.; Chauhan A.; Colledani C.; Contin G.; Dannheim D.; Dort K.; de Melo J.; Deng W.; De Robertis G.; Di Mauro A.; Dorda Martin A.; Dorokhov A.; Dorosz P.; Eberwein G.; El Bitar Z.; Fang X.; Fenigstein A.; Ferrero C.; Fougeron D.; Gajanana D.; Goffe M.; Gonella L.; Grelli A.; Gromov V.; Habib A.; Haim A.; Hansen K.; Hasenbichler J.; Hillemanns H.; Hong G.H.; Hu C.; Isakov A.; Jaaskelainen K.; Junique A.; Kotliarov A.; Kremastiotis I.; Krizek F.; Kluge A.; Kluit R.; Kucharska G.; Kugathasan T.; Kwon Y.; La Rocca P.; Lautner L.; Leitao P.; Lim B.-H.; Loddo F.; Mager M.; Marras D.; Martinengo P.; Masciocchi S.; Mathew S.; Menzel M.W.; Morel F.; Mulyanto B.; Munker M.; Musa L.; Nakamura M.; Pangaud P.; Perciballi S.; Pham H.; Piro F.; Prino F.; Rachevski S.; Rebane K.; Reckleben C.; Reidt F.; Ricci R.; Russo R.; Sanna I.; Sarritzu V.; Savino U.; Schledewitz D.; Sedgwick I.; Senyukov S.; Snoeys W.; Soltveit H.K.; Sonneveld J.; Soudier J.; Stachel J.; Suzuki M.; Svihra P.; Suljic M.; Takahashi N.; Termo G.; Tiltmann N.; Toledano E.; Triffiro A.; Turcato A.; Usai G.; Valin I.; Villani A.; Van Beelen J.B.; Vassilev M.D.; Vernieri C.; Vitkovskiy A.; Wu Y.; Yelkenci A.; Yuncu A.