Measurement of the absolute branching fraction of inclusive semielectronic Ds+ decays

Ablikim M.; Achasov M.N.; Adlarson P.; Ahmed S.; Albrecht M.; Aliberti R.; Amoroso A.; An M.R.; An Q.; Bai X.H.; Bai Y.; Bakina O.; Baldini Ferroli R.; Balossino I.; Ban Y.; Begzsuren K.; Berger N.; Bertani M.; Bettoni D.; Bianchi F.; Bloms J.; Bortone A.; Boyko I.; Briere R.A.; Cai H.; Cai X.; Calcaterra A.; Cao G.F.; Cao N.; Cetin S.A.; Chang J.F.; Chang W.L.; Chelkov G.; Chen D.Y.; Chen G.; Chen H.S.; Chen M.L.; Chen S.J.; Chen X.R.; Chen Y.B.; Chen Z.J.; Cheng W.S.; Cibinetto G.; Cossio F.; Cui X.F.; Dai H.L.; Dai X.C.; Dbeyssi A.; De Boer R.E.; Dedovich D.; Deng Z.Y.; Denig A.; Denysenko I.; Destefanis M.; De Mori F.; Ding Y.; Dong C.; Dong J.; Dong L.Y.; Dong M.Y.; Dong X.; Du S.X.; Fan Y.L.; Fang J.; Fang S.S.; Fang Y.; Farinelli R.; Fava L.; Feldbauer F.; Felici G.; Feng C.Q.; Feng J.H.; Fritsch M.; Fu C.D.; Gao Y.; Gao Y.; Gao Y.; Gao Y.G.; Garzia I.; Ge P.T.; Geng C.; Gersabeck E.M.; Gilman A.; Goetzen K.; Gong L.; Gong W.X.; Gradl W.; Greco M.; Gu L.M.; Gu M.H.; Gu Y.T.; Guan C.Y.; Guo A.Q.; Guo L.B.; Guo R.P.; Guo Y.P.; Guskov A.; Han T.T.; Han W.Y.; Hao X.Q.; Harris F.A.; He K.L.; Heinsius F.H.; Heinz C.H.; Held T.; Heng Y.K.; Herold C.; Himmelreich M.; Holtmann T.; Hou G.Y.; Hou Y.R.; Hou Z.L.; Hu H.M.; Hu J.F.; Hu T.; Hu Y.; Huang G.S.; Huang L.Q.; Huang X.T.; Huang Y.P.; Huang Z.; Hussain T.; Husken N.; Ikegami Andersson W.; Imoehl W.; Irshad M.; Jaeger S.; Janchiv S.; Ji Q.; Ji Q.P.; Ji X.B.; Ji X.L.; Ji Y.Y.; Jiang H.B.; Jiang X.S.; Jiao J.B.; Jiao Z.; Jin S.; Jin Y.; Jing M.Q.; Johansson T.; Kalantar-Nayestanaki N.; Kang X.S.; Kappert R.; Kavatsyuk M.; Ke B.C.; Keshk I.K.; Khoukaz A.; Kiese P.; Kiuchi R.; Kliemt R.; Koch L.; Kolcu O.B.; Kopf B.; Kuemmel M.; Kuessner M.; Kupsc A.; Kurth M.G.; Kuhn W.; Lane J.J.; Lange J.S.; Larin P.; Lavania A.; Lavezzi L.; Lei Z.H.; Leithoff H.; Lellmann M.; Lenz T.; Li C.; Li C.H.; Li C.; Li D.M.; Li F.; Li G.; Li H.; Li H.; Li H.B.; Li H.J.; Li J.L.; Li J.Q.; Li J.S.; Li K.; Li L.K.; Li L.; Li P.R.; Li S.Y.; Li W.D.; Li W.G.; Li X.H.; Li X.L.; Li X.; Li Z.Y.; Liang H.; Liang H.; Liang H.; Liang Y.F.; Liang Y.T.; Liao G.R.; Liao L.Z.; Libby J.; Lin C.X.; Liu B.J.; Liu C.X.; Liu D.; Liu F.H.; Liu F.; Liu F.; Liu H.B.; Liu H.M.; Liu H.; Liu H.; Liu J.B.; Liu J.L.; Liu J.Y.; Liu K.; Liu K.Y.; Liu L.; Liu M.H.; Liu P.L.; Liu Q.; Liu Q.; Liu S.B.; Liu S.; Liu T.; Liu W.M.; Liu X.; Liu Y.; Liu Y.B.; Liu Z.A.; Liu Z.Q.; Lou X.C.; Lu F.X.; Lu H.J.; Lu J.D.; Lu J.G.; Lu X.L.; Lu Y.; Lu Y.P.; Luo C.L.; Luo M.X.; Luo P.W.; Luo T.; Luo X.L.; Lyu X.R.; Ma F.C.; Ma H.L.; Ma L.L.; Ma M.M.; Ma Q.M.; Ma R.Q.; Ma R.T.; Ma X.X.; Ma X.Y.; Maas F.E.; Maggiora M.; Maldaner S.; Malde S.; Malik Q.A.; Mangoni A.; Mao Y.J.; Mao Z.P.; Marcello S.; Meng Z.X.; Messchendorp J.G.; Mezzadri G.; Min T.J.; Mitchell R.E.; Mo X.H.; Mo Y.J.; Muchnoi N.Y.; Muramatsu H.; Nakhoul S.; Nefedov Y.; Nerling F.; Nikolaev I.B.; Ning Z.; Nisar S.; Ouyang Q.; Pacetti S.; Pan X.; Pan Y.; Pathak A.; Pathak A.; Patteri P.; Pelizaeus M.; Peng H.P.; Peters K.; Pettersson J.; Ping J.L.; Ping R.G.; Pogodin S.; Poling R.; Prasad V.; Qi H.; Qi H.R.; Qi K.H.; Qi M.; Qi T.Y.; Qian S.; Qian W.B.; Qian Z.; Qiao C.F.; Qin L.Q.; Qin X.P.; Qin X.S.; Qin Z.H.; Qiu J.F.; Qu S.Q.; Rashid K.H.; Ravindran K.; Redmer C.F.; Rivetti A.; Rodin V.; Rolo M.; Rong G.; Rosner C.; Rump M.; Sang H.S.; Sarantsev A.; Schelhaas Y.; Schnier C.; Schoenning K.; Scodeggio M.; Shan D.C.; Shan W.; Shan X.Y.; Shangguan J.F.; Shao M.; Shen C.P.; Shen H.F.; Shen P.X.; Shen X.Y.; Shi H.C.; Shi R.S.; Shi X.; Shi X.D.; Song J.J.; Song W.M.; Song Y.X.; Sosio S.; Spataro S.; Su K.X.; Su P.P.; Sui F.F.; Sun G.X.; Sun H.K.; Sun J.F.; Sun L.; Sun S.S.; Sun T.; Sun W.Y.; Sun W.Y.; Sun X.; Sun Y.J.; Sun Y.K.; Sun Y.Z.; Sun Z.T.; Tan Y.H.; Tan Y.X.; Tang C.J.; Tang G.Y.; Tang J.; Teng J.X.; Thoren V.; Tian W.H.; Tian Y.T.; Uman I.; Wang B.; Wang C.W.; Wang D.Y.; Wang H.J.; Wang H.P.; Wang K.; Wang L.L.; Wang M.; Wang M.Z.; Wang M.; Wang W.; Wang W.H.; Wang W.P.; Wang X.; Wa